納米型3D影像檢測(cè)儀
納米型3D影像檢測(cè)儀系列結(jié)合相移垂直掃描的技術(shù)與顯微光干涉技術(shù),不需要復(fù)雜光路調(diào)整程序,即可在非接觸、無破壞、普通大氣環(huán)境下完成3D奈米深度高度的表面檢測(cè)分析,不僅提供3D表面形狀和表面紋理的分析,更可提供鏡面表面的奈米級(jí)粗糙度和臺(tái)階高度分析,并追溯至ISO規(guī)范。
本納米型3D影像檢測(cè)系列具有*的測(cè)量能力,可在幾秒內(nèi)就完成整個(gè)視場(chǎng)的掃描,得到測(cè)量樣品的3D圖形與高度深度數(shù)據(jù),檢測(cè)速度與深度量測(cè)能力優(yōu)于逐點(diǎn)逐面掃描的共焦掃描顯微鏡,3D圖形量測(cè)能力又優(yōu)于掃描式電子顯微鏡的2D平面檢測(cè)能力,且不需要使用電子束或雷射,開機(jī)快又安全,維護(hù)成本更低。無論是拋光面,還是粗糙面,甚至是高透明材質(zhì)(例如石英),只要有超過1%以上的反射率就能夠被檢測(cè)。
本系列適合各種材料與微組件表面特征和微尺寸檢測(cè),應(yīng)用領(lǐng)域包含:
觸控面板 (Touch Panel)
太陽能板 (Solar Cell)
晶圓(Silicon Wafer or Sapphire Wafer)
光盤/硬盤(DVD Disk/Hard Disk)
微機(jī)電組件 (MEMS Components)
平面液晶顯示器(LCD)
高密度線路印刷電路板( HDI PCB )
IC封裝( IC Package)
精密微機(jī)械組件或模具(Micro Mechanical Parts or Mode)
以及其它材料分析與組件微表面研究。
納米型3D影像檢測(cè)儀深度高度分辨率達(dá)0.1nm
本納米型3D影像檢測(cè)儀提供Z軸掃描分辨率0.1nm,平面空間分辨力0.5 um (50X物鏡)的量測(cè)能力,zui高達(dá)12 um/s的垂直掃描速度,所具有的奈米3D顯微形貌快速呈現(xiàn)能力是科研、研發(fā)、生產(chǎn)品檢時(shí)所*的工具。
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